高(gao)低溫(wen)冷(leng)熱交變沖擊(ji)測(ce)試(shi)機
高(gao)低溫(wen)冷(leng)熱交變沖擊(ji)測(ce)試(shi)機 高(gao)低溫(wen)沖(chong)擊熱流(liu)儀方法(fa) 高(gao)低溫(wen)冷(leng)熱交變沖擊(ji)測(ce)試(shi)機是(shi)壹(yi)種(zhong)測(ce)試(shi)設備(bei),用於(yu)測(ce)試(shi)材料(liao)、產(chan)品或部件(jian)在(zai)高(gao)溫(wen)、低(di)溫(wen)和(he)溫(wen)度(du)變化的(de)條件(jian)下的(de)耐久性(xing)和(he)性(xing)能(neng)。它(ta)能(neng)夠(gou)模擬各種環境,如極(ji)寒(han)、極(ji)熱(re)和(he)溫(wen)度(du)變化,通(tong)過對(dui)樣品進(jin)行冷熱(re)交變和(he)沖擊測(ce)試(shi),可以檢(jian)測(ce)其性(xing)能(neng)是(shi)否合格(ge),以及其在(zai)環境下的(de)耐久性(xing)和(he)穩定(ding)性(xing)。這(zhe)種(zhong)測(ce)試(shi)機廣(guang)泛應(ying)用(yong)於(yu)汽車、電子(zi)、航空航天、軍工(gong)等(deng)行業的(de)產(chan)品測(ce)試(shi)。

【適(shi)用範(fan)圍】
高(gao)低溫(wen)沖(chong)擊熱流(liu)儀適用於(yu)各類半(ban)導(dao)體芯(xin)片、閃存Flash/EMMC、PCB 電路(lu)板(ban)IC、光通訊(xun)(如收發(fa)器(qi) transceiver 高(gao)低溫(wen)測(ce)試(shi)、SFP 光模塊高(gao)低溫(wen)測(ce)試(shi)等)、電子(zi)行業等(deng)進行(xing)IC 特(te)性(xing)分析、高(gao)低溫(wen)循(xun)環測(ce)試(shi)、溫(wen)度(du)沖擊測(ce)試(shi)、失(shi)效(xiao)分析等可靠(kao)性(xing)試(shi)驗(yan)。
【工(gong)作(zuo)原(yuan)理(li)】
1、試(shi)驗(yan)機輸(shu)出(chu)氣流(liu)罩(zhao)將(jiang)被(bei)測(ce)試(shi)品罩(zhao)住(zhu),形(xing)成壹(yi)個較密閉(bi)空間的(de)測(ce)試(shi)腔,試(shi)驗(yan)機輸(shu)出(chu)的(de)高(gao)溫(wen)或低溫(wen)氣(qi)流(liu),使被(bei)測(ce)試(shi)品表面(mian)溫(wen)度(du)發生(sheng)劇烈(lie)變化,從而完成相(xiang)應(ying)的(de)高(gao)低溫(wen)沖(chong)擊試(shi)驗(yan);
2、可針對(dui)眾(zhong)多(duo)元(yuan)器(qi)件(jian)中的(de)某壹(yi)單個IC或其它(ta)元件(jian),將(jiang)其隔(ge)離出(chu)來(lai)單獨進行高(gao)低溫(wen)沖(chong)擊,而不影響(xiang)周邊(bian)其它(ta)器(qi)件(jian),與(yu)傳統冷熱沖擊(ji)試(shi)驗(yan)箱(xiang)相(xiang)比(bi),溫(wen)變變化沖(chong)擊速(su)率(lv)更快。
【工(gong)作(zuo)模式】
A)2路(lu)主(zhu)空氣管(guan)輸(shu)出(chu),由分布(bu)頭分為(wei)8路(lu)供(gong)氣(qi),帶(dai)2套(tao)1拖(tuo)8 系統
B) 2種(zhong)檢(jian)測(ce)模式 Air Mode 和(he) DUT Mode
測(ce)試(shi)和(he)循(xun)環於(yu)高(gao)溫(wen)/常溫(wen)/低(di)溫(wen)(或者不要常溫(wen))
【主(zhu)要技(ji)術參(can)數(shu)】
設(she)備(bei)型號: HE-ATS750
溫(wen)度(du)控制(zhi)範(fan)圍: -70℃~+250℃
沖(chong)擊溫(wen)度(du)範(fan)圍: -60℃~+200℃
溫(wen)度(du)轉(zhuan)換(huan)時(shi)間: ≤10秒
溫(wen)度(du)偏差(cha): 測(ce)試(shi)品恒(heng)定(ding)在(zai)-40℃時(shi),溫(wen)度(du)偏差(cha)為(wei)±1℃
沖(chong)擊氣(qi)流(liu)量: 1.9~8.5L/s(分為(wei)8路(lu),每(mei)路(lu)0.23~1.06 L/s)連續(xu)氣(qi)流(liu)
溫(wen)變速率(lv)降(jiang): RT+10℃降(jiang)至(zhi)-40℃≤60s
試(shi)品表面(mian)溫(wen)度(du): RT+10℃降(jiang)至(zhi)-40℃約1分鐘(zhong)試(shi)品表面(mian)溫(wen)度(du)達到,氣(qi)體(ti)溫(wen)度(du)與樣品溫(wen)度(du)可選擇(ze)測(ce)控
樣品盒(he)尺寸: 直(zhi)徑(jing)140mm×高(gao)50mm
制(zhi)冷方式(shi): 采(cai)用風冷式HFC環保制(zhi)冷劑(ji)復(fu)疊(die)系(xi)統,溫(wen)度(du)可達-70℃
控(kong)制(zhi)系統: 采(cai)用進(jin)口智(zhi)能(neng)PLC觸(chu)摸屏(ping)控制(zhi),7寸彩色屏(ping)
試(shi)品: 帶(dai)2套(tao)1拖(tuo)8 系(xi)統,金(jin)屬封(feng)裝PCB板(ban)模塊8片
外形(xing)尺寸: 寬(kuan)790×高(gao)1600×深(shen)1080(mm)以實(shi)物為(wei)準(zhun)
使用(yong)電源(yuan): AC 三相 五(wu)線(xian) 380V 50/60HZ
噪音(yin): ≤65dB(A聲(sheng)級(ji))
條(tiao)件(jian): 風冷式環境溫(wen)度(du)在+23℃時(shi)
幹(gan)燥氣(qi)源(yuan): 用(yong)戶自備(bei)
註(zhu):前(qian)端(duan)空氣經(jing)幹(gan)燥(zao)過濾器(qi)處理,產(chan)品測(ce)試(shi)區及(ji)附(fu)近(jin)無明(ming)顯結(jie)露現(xian)象(xiang)。設(she)備(bei)可以連續(xu)運(yun)轉(zhuan)不需進行除霜
高(gao)低溫(wen)沖(chong)擊熱流(liu)儀是(shi)壹(yi)種(zhong)測(ce)試(shi)材料(liao)熱穩定(ding)性(xing)能(neng)的(de)儀器(qi),其方(fang)法(fa)如下:1. 準(zhun)備(bei)樣品:將(jiang)樣品切(qie)成長寬均勻的(de)條狀,尺寸壹(yi)般(ban)為10mm x 100mm,並(bing)用(yong)磨(mo)刀機將(jiang)其兩端(duan)磨平(ping)。
2. 選定測(ce)試(shi)溫(wen)度(du)範(fan)圍:根據測(ce)試(shi)要求和(he)樣品的(de)特性(xing),選擇(ze)測(ce)試(shi)溫(wen)度(du)範(fan)圍。
3. 開始測(ce)試(shi):將(jiang)樣品放(fang)置在高(gao)低溫(wen)沖(chong)擊熱流(liu)儀的(de)試(shi)樣臺(tai)上(shang),設定測(ce)試(shi)溫(wen)度(du)和(he)時間,開始測(ce)試(shi)。測(ce)試(shi)時,樣品會(hui)被(bei)加熱(re)至(zhi)設定(ding)的(de)高(gao)溫(wen)溫(wen)度(du),保持(chi)壹(yi)段(duan)時間(jian)後,立(li)即將(jiang)溫(wen)度(du)降(jiang)至(zhi)設(she)定(ding)的(de)低溫(wen)溫(wen)度(du),保持(chi)壹(yi)段(duan)時間(jian)後再(zai)次加熱(re)至(zhi)設定(ding)的(de)高(gao)溫(wen)溫(wen)度(du),如此(ci)循(xun)環進行。每個循(xun)環稱為壹(yi)個熱流(liu)循(xun)環。根據測(ce)試(shi)要求,可以設置多個熱流(liu)循(xun)環。
4. 測(ce)試(shi)數(shu)據處理(li):測(ce)試(shi)完成後(hou),可以通過高(gao)低溫(wen)沖(chong)擊熱流(liu)儀的(de)軟(ruan)件(jian)或計算機(ji)進(jin)行(xing)數(shu)據處理(li)和(he)分析,得到樣品在(zai)不同(tong)溫(wen)度(du)下的(de)熱穩定(ding)性(xing)能(neng)指(zhi)標,如熱失(shi)重(zhong)率等(deng)。
需要註意(yi)的(de)是(shi),測(ce)試(shi)前(qian)應(ying)先(xian)進(jin)行設備(bei)的(de)校準(zhun)和(he)檢(jian)測(ce),以確保測(ce)試(shi)結(jie)果(guo)的(de)準(zhun)確性(xing)和(he)可靠(kao)性(xing)。同(tong)時(shi),樣品的(de)制(zhi)備(bei)和(he)處理也(ye)要遵循(xun)相(xiang)應的(de)標準(zhun)和(he)規(gui)範(fan),以保證測(ce)試(shi)結(jie)果(guo)的(de)可比(bi)性(xing)和(he)可靠(kao)性(xing)。
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