金(jin)屬激(ji)光打標(biao)機(ji)即(ji)用激(ji)光光束(shu)將特(te)定(ding)部分(fen)的金(jin)屬材料(liao)去除(chu)，從(cong)而(er)實現(xian)想(xiang)要(yao)達到(dao)的(de)效(xiao)果或標(biao)識。在金(jin)屬雕刻應(ying)用中，激(ji)光光束(shu)就像雕刻時(shi)使(shi)用的鑿(zao)刀，將多(duo)余的金(jin)屬材料(liao)鑿(zao)掉(diao)。激(ji)光金屬打標(biao)分(fen)為(wei)淺雕和深雕兩(liang)種。通(tong)常淺雕的(de)雕(diao)刻深度為(wei)5～25；深雕的深度壹(yi)般(ban)較深，具體深度取(qu)決(jue)於不同(tong)的(de)材料(liao)、所(suo)用激(ji)光的功率(lv)以(yi)及(ji)雕(diao)刻的(de)時(shi)間(jian)。

　　金(jin)屬激(ji)光打標(biao)機(ji)的(de)性(xing)能(neng)特征(zheng)：

　　(1)可(ke)對絕大(da)多數金屬或非金屬材料(liao)進(jin)行加(jia)工(gong)。

　　(2)激(ji)光是以(yi)非機(ji)械式(shi)的(de)"刀(dao)巨(ju)"進(jin)行加(jia)工(gong)，對材料(liao)不(bu)產生(sheng)機(ji)械擠壓或機(ji)械應(ying)力(li)，無(wu)"刀(dao)巨(ju)"磨(mo)損(sun)，無(wu)毒，很少造成環(huan)境汙(wu)染(ran)。

　　(3)激(ji)光束(shu)很細(xi)，使(shi)被(bei)加(jia)工(gong)材(cai)料(liao)的(de)消耗很小(xiao)。

　　(4)加(jia)工(gong)時(shi)，不(bu)會(hui)像電子(zi)束(shu)轟擊(ji)等(deng)加(jia)工方法那(na)樣(yang)產生(sheng)X射(she)線(xian)，也(ye)不(bu)會(hui)受(shou)電場(chang)和磁(ci)場的(de)幹(gan)擾。

　　(5)操(cao)作(zuo)簡單，使用微(wei)機(ji)數控技(ji)術能(neng)實現(xian)自動(dong)化(hua)加工，能(neng)用於生產線(xian)上(shang)對零(ling)部件(jian)進(jin)行高(gao)速度高(gao)效(xiao)率地(di)加工(gong)，能(neng)作為(wei)柔性(xing)加工系統中的(de)壹(yi)部分(fen)。

　　(6)使用精密(mi)工(gong)作臺能(neng)進(jin)行精(jing)細(xi)微(wei)加工(gong)。

　　(7)使(shi)用顯微(wei)統或(huo)攝(she)像系統(tong)，能對被(bei)加(jia)工(gong)表(biao)面(mian)狀(zhuang)況(kuang)進(jin)行觀(guan)察(cha)或(huo)監控。

　　(8)可穿(chuan)過透光物質(zhi)（如(ru)石英、玻(bo)璃），對其內(nei)部零(ling)部件(jian)進(jin)行加(jia)工(gong)。

　　(9)可(ke)以利用棱鏡、反射鏡系統（對於Nd：YAG激(ji)光器還(hai)能(neng)用光纖導光系統）將光束(shu)聚(ju)集到(dao)工(gong)件(jian)的內(nei)表(biao)面(mian)或(huo)傾(qing)斜表(biao)面(mian)上(shang)進(jin)行加(jia)工(gong)。

　　(10)能(neng)標(biao)記條(tiao)形(xing)碼、數字(zi)、字(zi)符、圖(tu)案(an)等(deng)標(biao)誌。

　　(11)這(zhe)些(xie)標(biao)誌的(de)線(xian)寬(kuan)可(ke)小到(dao)12Mm、線(xian)深度可(ke)達10Mm以(yi)下(xia)，故能(neng)對"毫(hao)米級(ji)"尺(chi)寸(cun)大(da)小的零(ling)表(biao)面(mian)進(jin)行標(biao)記。

　　金(jin)屬激(ji)光打標(biao)機(ji)是用激(ji)光束(shu)在各種(zhong)不(bu)同的物質(zhi)表(biao)面(mian)打(da)上(shang)永九的標(biao)記。打(da)標(biao)的效(xiao)應(ying)是通(tong)過表(biao)面(mian)物(wu)質(zhi)的(de)蒸發(fa)露(lu)出(chu)深層(ceng)物質(zhi)，或(huo)者(zhe)是通(tong)過光能導致表(biao)層(ceng)物質(zhi)的(de)化學(xue)物理變而"刻"出(chu)痕(hen)跡，或者(zhe)是通(tong)過光能燒(shao)掉(diao)部分(fen)物質(zhi)，顯(xian)出(chu)所(suo)需刻蝕(shi)的(de)圖形(xing)、文字(zi)。