壹(yi)、用途簡介(jie)：

    真(zhen)空充(chong)氮烤箱(xiang)適(shi)用於光電(dian)、矽晶片(pian)、電(dian)子芯片(pian)、電(dian)池(chi)、線路(lu)板、電(dian)子電(dian)器(qi)、金屬(shu)加(jia)工、制藥等各行業作無氧(yang)真空(kong)快速(su)幹燥、退(tui)火(huo)等高(gao)溫處(chu)理，可充(chong)惰(duo)性氣體(ti)防止產(chan)品(pin)氧(yang)化。深受(shou)生產(chan)線(xian)、實驗室及(ji)科(ke)研單(dan)位(wei)喜(xi)愛。

二(er)、主要(yao)技術(shu)指標(biao)：

規(gui)格型(xing)號： HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000

內(nei)箱尺(chi)寸(cun)(cm)： 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100

外(wai)形尺(chi)寸(cun)(cm)： 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188

總(zong)功率(lv)： 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW

使(shi)用電(dian)源(yuan)： AC 單(dan)相(xiang) 三(san)線(xian) 220V 50HZ AC 三(san)相(xiang) 五(wu)線 380V 50HZ

溫度偏(pian)差(cha)： ±3% ±5% ±8%

真(zhen)空泵(beng)： 4升 8升

溫度範(fan)圍(選(xuan)擇(ze))：

□ RT+10℃～200℃

□ RT+10℃～250℃

□ RT+20℃～300℃

真(zhen)空度範(fan)圍： 0～-100KPa

控(kong)制方式： 按鍵(jian)式控(kong)制或PLC觸(chu)摸屏(ping)控(kong)制

結構： 壹(yi)體(ti)式結構（內(nei)置真(zhen)空泵(beng)）或分體(ti)式（外(wai)置(zhi)真空泵）

內(nei)箱材質(zhi)： SUS304#不(bu)銹鋼(gang)

外(wai)箱(xiang)材質(zhi)： SECC鋼(gang)板高(gao)級(ji)烤漆處(chu)理

充(chong)氮氣裝置： 1）氮(dan)氣壓力範(fan)圍：3～4Kg左(zuo)右；

2）流(liu)量計(ji)：量程為(wei)10L/min-100Lmin；

3）氣管配(pei)置：∮8mm氣管快插(cha)口(kou)；

4）充(chong)氮控(kong)制方式：采(cai)用時間(jian)自動(dong)控(kong)制或手動(dong)控(kong)制；

5）排(pai)氣閥(fa)：充氮(dan)氣的(de)同時打(da)開排(pai)氣閥(fa)，防止箱(xiang)內(nei)高(gao)壓；

6）氮(dan)氣：氮(dan)氣源(yuan)用戶自備(bei)。