HE-WDN2-72真空(kong)充(chong)氮(dan)烤箱(xiang)的技術(shu)參數
壹(yi)、用途簡(jian)介:
真空(kong)充(chong)氮(dan)烤箱(xiang)適用於(yu)光電、矽(gui)晶片、電子(zi)芯(xin)片、電池(chi)、線(xian)路(lu)板、電子(zi)電(dian)器、金屬加(jia)工(gong)、制藥等各行(xing)業(ye)作(zuo)無氧真空(kong)快速(su)幹(gan)燥、退火(huo)等(deng)高溫(wen)處理,可(ke)充(chong)惰(duo)性(xing)氣(qi)體防止產(chan)品(pin)氧化。深(shen)受生(sheng)產(chan)線(xian)、實驗室(shi)及(ji)科(ke)研單位(wei)喜愛(ai)。


二、主要(yao)技術(shu)指(zhi)標(biao):
規格(ge)型(xing)號: HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000
內箱(xiang)尺(chi)寸(cun)(cm): 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100
外(wai)形(xing)尺(chi)寸(cun)(cm): 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188
總(zong)功率(lv): 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW
使用電源: AC 單相(xiang) 三線(xian) 220V 50HZ AC 三相(xiang) 五(wu)線 380V 50HZ
溫度(du)偏差: ±3% ±5% ±8%
真空(kong)泵(beng): 4升 8升
溫度(du)範圍(選擇):
□ RT+10℃~200℃
□ RT+10℃~250℃
□ RT+20℃~300℃
真空(kong)度(du)範圍: 0~-100KPa
控(kong)制方式: 按(an)鍵(jian)式控(kong)制或PLC觸(chu)摸屏(ping)控(kong)制
結構: 壹(yi)體式結構(內(nei)置(zhi)真空(kong)泵(beng))或分體式(外(wai)置(zhi)真空(kong)泵(beng))
內箱(xiang)材質: SUS304#不銹鋼
外(wai)箱(xiang)材質: SECC鋼板高級烤漆處理
充(chong)氮(dan)氣(qi)裝(zhuang)置(zhi): 1)氮(dan)氣(qi)壓力(li)範圍:3~4Kg左右(you);
2)流量計:量程(cheng)為(wei)10L/min-100Lmin;
3)氣(qi)管配(pei)置(zhi):∮8mm氣(qi)管快插口;
4)充(chong)氮(dan)控(kong)制方式:采(cai)用時間(jian)自動控(kong)制或手動控(kong)制;
5)排(pai)氣(qi)閥:充(chong)氮(dan)氣(qi)的同時打開排(pai)氣(qi)閥,防止箱(xiang)內(nei)高壓;
6)氮(dan)氣(qi):氮(dan)氣(qi)源(yuan)用戶(hu)自備(bei)。
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