壹、用途簡介：

    真(zhen)空充氮(dan)烤(kao)箱(xiang)適(shi)用於(yu)光(guang)電、矽(gui)晶片(pian)、電子(zi)芯(xin)片(pian)、電池、線路板、電子(zi)電器(qi)、金屬(shu)加(jia)工(gong)、制(zhi)藥等各行業(ye)作無氧(yang)真(zhen)空快速(su)幹燥、退火等高(gao)溫處(chu)理，可(ke)充(chong)惰(duo)性(xing)氣體(ti)防(fang)止(zhi)產(chan)品(pin)氧(yang)化(hua)。深受生產(chan)線、實(shi)驗室(shi)及(ji)科研(yan)單位(wei)喜(xi)愛(ai)。

二(er)、主要(yao)技(ji)術(shu)指(zhi)標(biao)：

規(gui)格(ge)型(xing)號： HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000

內(nei)箱(xiang)尺寸(cm)： 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100

外形尺寸(cm)： 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188

總功率： 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW

使(shi)用電源(yuan)： AC 單相 三線 220V 50HZ AC 三相 五線 380V 50HZ

溫(wen)度(du)偏(pian)差(cha)： ±3% ±5% ±8%

真(zhen)空泵(beng)： 4升(sheng) 8升(sheng)

溫(wen)度(du)範(fan)圍(選(xuan)擇(ze))：

□ RT+10℃～200℃

□ RT+10℃～250℃

□ RT+20℃～300℃

真(zhen)空度(du)範(fan)圍： 0～-100KPa

控制(zhi)方式： 按(an)鍵式(shi)控制(zhi)或PLC觸(chu)摸屏(ping)控制(zhi)

結(jie)構(gou)： 壹體式結(jie)構(gou)（內置(zhi)真空泵(beng)）或分(fen)體式(shi)（外置(zhi)真空泵(beng)）

內(nei)箱(xiang)材質(zhi)： SUS304#不(bu)銹鋼(gang)

外箱(xiang)材質(zhi)： SECC鋼(gang)板(ban)高(gao)級烤(kao)漆(qi)處(chu)理

充(chong)氮氣裝置(zhi)： 1）氮(dan)氣壓(ya)力(li)範(fan)圍：3～4Kg左(zuo)右；

2）流量(liang)計(ji)：量(liang)程為(wei)10L/min-100Lmin；

3）氣管配(pei)置(zhi)：∮8mm氣管快插(cha)口(kou)；

4）充(chong)氮控制(zhi)方式：采用時(shi)間(jian)自動(dong)控制(zhi)或手(shou)動(dong)控制(zhi)；

5）排(pai)氣閥(fa)：充(chong)氮(dan)氣的(de)同(tong)時(shi)打開(kai)排氣閥(fa)，防(fang)止(zhi)箱(xiang)內高(gao)壓(ya)；

6）氮(dan)氣：氮(dan)氣源(yuan)用戶自(zi)備(bei)。