壹(yi)、充(chong)氮(dan)真空(kong)高溫烤(kao)箱(xiang)箱(xiang)體(ti)規格(ge)

箱(xiang)體(ti)結(jie)構(gou)：連(lian)體(ti)式，真(zhen)空(kong)泵(beng)置(zhi)於(yu)機(ji)臺(tai)下部(bu)；

隔層：內(nei)分二(er)層，配網板二(er)塊，可活(huo)動抽(chou)出(chu)；

面板安裝(zhuang)：控(kong)制(zhi)面板安裝(zhuang)於(yu)機(ji)臺(tai)下方(fang)（如(ru)設(she)備外(wai)觀圖）；

開門(men)方(fang)式：單由(you)右(you)至左(zuo)開啟;

可視(shi)窗：門(men)上(shang)帶可視(shi)窗，規格(ge)W250×H300mm；

內箱(xiang)材料(liao)為(wei)：304#不銹鋼(gang)工(gong)業板；內箱(xiang)加(jia)強處(chu)理(li)，抽(chou)真(zhen)空(kong)不變形(xing)；

保溫(wen)材質(zhi)為(wei)：耐高溫巖(yan)棉(mian)，保溫(wen)層厚100mm，保溫(wen)效(xiao)果好；

二(er)、充(chong)氮(dan)真空(kong)高溫烤(kao)箱(xiang)控溫(wen)系統(tong)

1、控制(zhi)為PID數(shu)顯(xian)儀(yi)表；

2、加(jia)熱(re)體(ti)為耐高溫發(fa)熱(re)管；

3、溫度(du)範圍：常溫(wen)+30℃～200℃

4、控制(zhi)精度：±0.5℃

5、顯(xian)示(shi)精度(du)：0.1℃        

6、箱(xiang)內溫(wen)度(du)均勻度(du)：±5℃%(無(wu)真(zhen)空(kong)時(shi)，空(kong)箱(xiang)測(ce)試)

7、升溫(wen)速率(lv)：RT→100℃（約(yue)30分鐘(zhong)）

三、真空(kong)系統(tong)

1、本機(ji)采用(yong)高密(mi)封性的矽(gui)膠(jiao)密(mi)封條保障(zhang)整(zheng)機(ji)的(de)密(mi)封性；

2、采用(yong)數(shu)顯(xian)示(shi)式真(zhen)空(kong)表(biao)直(zhi)接(jie)顯(xian)示(shi)內箱(xiang)真空(kong)度(du)，讓(rang)妳(ni)即(ji)時(shi)了解箱(xiang)體(ti)內的(de)真空(kong)狀(zhuang)態(tai)，真(zhen)空(kong)度(du)達(da)到(dao)0－-0.1Mpa (即(ji):100pa真(zhen)空(kong)度(du))

3、真空(kong)度(du)：0～-101KPa（數(shu)顯(xian)式(shi)負(fu)壓(ya)真(zhen)空(kong)表(biao)，顯(xian)示(shi)相對(dui)壓(ya)力(li)值(zhi)）

4、真空(kong)表(biao)顯(xian)示(shi)精度(du)：0.1KPa

5、真空(kong)保(bao)壓(ya)泄(xie)漏率(lv)：約(yue)0.8KPa每(mei)小時(shi)

四、充(chong)氮(dan)氣裝(zhuang)置(zhi)

1、調壓(ya)閥(fa)：控制(zhi)氮(dan)氣壓(ya)力(li)，正(zheng)常使(shi)用(yong)下氮(dan)氣壓(ya)力(li)調為(wei)2.5公(gong)斤(jin)左(zuo)右(you)；

2、面板流(liu)量(liang)計(ji)：控制(zhi)氮(dan)氣進(jin)入箱(xiang)內的(de)大小(xiao)，量程為10L/min-60Lmin；

3、氮(dan)氣管道(dao)進(jin)入到(dao)箱(xiang)內正(zheng)後(hou)面，調壓(ya)閥(fa)處(chu)預留8mm快(kuai)插(cha)氣(qi)管接(jie)口(kou)；

4、註(zhu)：氮(dan)氣由(you)用(yong)戶(hu)自(zi)備。