UV紫(zi)外激(ji)光(guang)打標機

產品(pin)介(jie)紹(shao)

1、    UV紫外(wai)激(ji)光(guang)打標機紫外(wai)激(ji)光(guang)器屬於(yu)冷(leng)光(guang)源(yuan)，激(ji)光(guang)切(qie)割(ge)或(huo)打(da)標(biao)時熱(re)影響特別小 ,更適合對熱(re) 影晌(shang)比較(jiao)敏感的(de)材(cai)料進行(xing)深加工。

 2、    UV紫外(wai)激(ji)光(guang)打標機紫處激(ji)光(guang)器具有(you)更(geng)窄的(de)脈(mai)沖(chong)寬(kuan)度(du)和更(geng)高的(de)峰(feng)值(zhi)功率 ,對陶(tao)瓷(ci)藍寶(bao)石等(deng)破(po) 壞(huai)閥值(zhi)更高(gao)的(de)材(cai)料很(hen)容易(yi)突破(po)他(ta)們(men)的(de)破(po)壞(huai)閥值(zhi) ,所以(yi)很(hen)容易(yi)加工破(po)壞(huai)閥 值(zhi)要求(qiu)很高(gao)的(de)高(gao)分子(zi)材料(liao)。

3、    UV紫外(wai)激(ji)光(guang)打標機紫外(wai)激(ji)光(guang)器聚焦(jiao)後的(de)光(guang)斑小(xiao)可達15UM,所以(yi)非(fei)常適合進行(xing)微(wei)孔鉆(zuan)孔 加工。 激(ji)光(guang)加工原(yuan)理(li)：激(ji)光(guang)打標機是利用高能(neng)量(liang)密度(du)激(ji)光(guang)束(shu) ,對工(gong)件(jian)表(biao) 面進行(xing)局部照(zhao)射(she) ,使(shi)表(biao)層材料(liao)迅速汽(qi)化(hua)或(huo)發(fa)生顏(yan)色(se)變(bian)化(hua)，從而(er)露出深層(ceng) 物(wu)質(zhi)或(huo)者(zhe)導(dao)致(zhi)表層物(wu)質(zhi)化(hua)學(xue)物(wu)理變(bian)化(hua)刻出痕(hen)跡，或(huo)都(dou)通(tong)過光(guang)能(neng)燒(shao)掉(diao)部 份(fen)物(wu)質(zhi) ,顯(xian)出所需(xu)刻(ke)蝕(shi)的(de)圖(tu)形、文(wen)字(zi)。

產品(pin)特點(dian)

1、    UV紫外(wai)激(ji)光(guang)打標機采(cai)用美國半導(dao)體(ti)激(ji)光(guang)器泵(beng)浦 ,光(guang)學(xue)諧振腔內(nei)進行(xing)3次(ci)倍頻輸出355nm波 長激(ji)光(guang) ,電光(guang)轉換(huan)效率高(gao)光(guang)束(shu)質(zhi)量(liang)為(wei)TEM100模 。

2、    UV紫外(wai)激(ji)光(guang)打標機紫外(wai)激(ji)光(guang)器屬於(yu)冷(leng)光(guang)源(yuan) ,熱(re)影響區小 ,的(de)光(guang)束(shu)質(zhi)量(liang)創造出超高(gao)精(jing)細(xi) 打標(biao)效(xiao)果(guo)。

3、    UV紫外(wai)激(ji)光(guang)打標機采(cai)用進口(kou)掃(sao)描 振鏡(jing)，標(biao)記(ji)速度(du)快 ,同時適合微(wei)切(qie)割(ge)和鉆(zuan)孔。

 4、    UV紫外(wai)激(ji)光(guang)打標機超高(gao)的(de)峰(feng)值(zhi)功率和極(ji)少的(de)熱(re)效(xiao)應特點(dian) ,非常(chang)適合鉆孔切(qie)割(ge)。

 5、    UV紫外(wai)激(ji)光(guang)打標機標記(ji)環(huan)保(bao) ,符合(he)ROHS標準(zhun)。

6、     UV紫外(wai)激(ji)光(guang)打標機軟件可接收(shou)DXF、PLT、BMP、Al、JPG等格式(shi) ,並可自(zi)動生成(cheng)流(liu)水 號和生(sheng)產日(ri)期(qi) ,條碼(ma) ,二(er)維碼(ma) 。

技術(shu)參數